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第451章 极限在哪里6K（第5页）
“因为7nm和5nm的差距不大，没有办法作为决定性的筹码…”
经过长达一个小时的讨论。
最终他们达成了一致，一方面是加大投入，加速推进先进制程的研发，另外一方面则是同意扩大对阿美莉卡投资，把最先进的2nm制程生产线搬一条到阿美莉卡，但要换得白宫的许可，许可他们卖5nm给大陆。
“梁工，来坐。”
林燃指了指眼前的座位，对梁孟松说道。
坐在对面的，是真正的匠人，堪称是拥有工程师之魂的男人，如果他是霓虹人，说一句芯片仙人毫不为过。
从2017年加入中芯国际担任联席ceo以来，在他的领导下，中芯国际的制程研发速度实现了惊人的飞跃，哪怕没有林燃，中芯国际也实现了在没有euv等尖端设备情况下的7nm芯片制造能力，小批量用于特定产品。
最重要的是体系，他帮中芯国际构建了完善的半导体制造和研发体系。
当然，技术是一方面，林燃更敬佩的是对方的人品，对方在加入中芯国际才两年就捐了90万在杭电成立孟宁奖学金。
和来大陆其他的4v半导体精英们在画风上差异太大。
“林总，目前我们的cg-1光刻机还在技术验证的过程，从理论上而言，它已经没有问题了，只是它的稳定性太差。
超构透镜这套镜片系统确实很先进，精度很高，但同样，它也有它的问题。
那就是我们不能轻易去调整它，这套透镜系统太精密了，任何微小的温度、震动或颗粒物变化，都会导致光学失真。
一旦失真，我们不得不停止生产，重新进行数周的对准和校正。
校正一次的成本，甚至比生产一个月的7nm晶圆还要高。
和传统的半导体生产设备比起来，这条技术路线最大的问题在于，它的调试成本太高，无论是时间成本还是金钱上的成本。”
梁孟松解释道。
正当台积电想要获得白宫许可，卖5nm的芯片给华国的时候，华国已经摸到了4nm的门槛。
这台命名为cg-1的光刻机，虽然还不是euv光刻机，因为华国还没搞定光源，但已经是传统duv光刻机路线下的极限。
“梁工，你犯了一个绝对稳定的工程错误。”
林燃轻声提醒道。
梁孟松一愣，不解地看着林燃。
在过去的合作过程中，梁孟松知道林燃也许对工艺没有他那么熟练，但对方天马行空的想法，尤其是在数学解决工程上的能力，绝对是蓝星之最。
他们内部团队戏称，数学上的问题如果林燃没有办法解决，那这个地球上就没有人能解决了。
“我们用超构透镜的极限精度，实现了4nm的理论分辨率。
但你试图用传统的静态被动稳定方法，不管是隔绝振动还是恒温恒湿去驯服它。
我们无数时间去调试，去追求一个理想中永恒不变的完美焦点。”
林燃抬手，指了指空气，似乎他们眼前就有cg-1光刻机一样。
“但cg-1的透镜组，永远不可能像asml的纯石英镜片那样稳定。
它的材料、它的结构，注定对环境更敏感。
无论是从现在，还是从长远来看，我们都必须放弃绝对稳定的幻想，转向动态补偿。”
（本章完）
