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第450章 飓风的开端（第3页）

一年后的今天，他完全懂了，那位名叫约翰·亚当斯·摩根的家伙，一方面和华国联手收割台股和资本市场，一方面在让霓虹半导体产业自掘坟墓。

在山口看来，也许唯一的好消息是，华国人也要一头钻进nil光刻机这个大坑里去。

华国突破消息传来的当天下午，研发总监召集了所有核心工程师。

会议室的气氛比任何一次光刻机故障都要压抑。

研发总监直接切入正题：“华国市场对我们7nm光刻胶和精密研磨液的订单，下季度被要求削减25%。”

房间里一片死寂。

25%的削减，意味着数十亿日元的损失，更意味着华国本土的材料供应商，正在以一种超乎预期的速度进入核心产线。

“但这不可能，”

有人忍不住反驳，“华国本土光刻胶的杂质控制在7nm良率上根本过不了关！”

总监叹了口气，推了推眼镜，将一份报告投影到屏幕上。

“问题不在这里。

这份报告来自我们的情报部门。

华国政府正在对使用本土材料的晶圆厂，提供高额的良率损失补贴。

他们放弃了短期的盈利，用国家的力量在强制迭代本土材料的质量。”

他目光扫过所有人，语气变得无比沉重：“我们卖给他们的28nm技术，让他们掌握了工艺验证和纠错的速度。

千代田是错的，他们太高估了我们的控制能力。

他们以为控制了euv设备，华国就没有办法翻出浪，实际上大错特错。”

哪怕在私下，霓虹人也不敢指责白宫。

“先生们，我们的优势不再是不可取代，而是难以快速取代。

现在，华国已经向全世界证明，这个快速的时限，居然只有一年。”

从那天起，山口的研发任务发生了彻底的转变。

过去，他们的工作是精益求精，将现有光刻胶的纯度提升到小数点后更多位，优化其曝光均匀性。

现在，上级要求他将重心完全转向技术突破。

在他的实验记录本首页，他用红笔写下了新的目标：

下一代euv材料，交付时间提前一年。

目标：必须实现五年内无法被模仿的全新化学结构和制备工艺。

山口意识到，他现在是在和时间赛跑，和一个国家机器的投入赛跑。

光刻胶的纯度关乎着霓虹在全球半导体供应链中的阵地。

他感觉自己不再是匠人，而是一个在风暴中手持火把拼命奔跑的前哨兵。

晚上，山口坐在家里的榻榻米上，妻子正在厨房准备晚餐，电视里播放着关于此事的特别报道。

一位前经产省的官员在节目中脸色铁青：